产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液
1、微米/纳米级抛光液,抛光后具有均匀镜面效果,
2、磨料颗粒呈悬浮状态,不易分散沉淀,提高CMP效率和稳定性,
3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强,
吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工,达到优良的表面平坦度,抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。
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