产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液
1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果，
2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性，
3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，
吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。
